化學氣相沉積（chemical vapor deposition，簡稱CVD）
化學氣相沉積為半導體製程中一種用來產生高純度、高效能的固態材料的重要技術，
半導體產業透過此技術來成長薄膜，使其產生化學反應、沉積、分解等附著在基底上，
當這些分子持續累積，進而形成一種新的物料。
